MD40-54-加熱制冷循環(huán)器（-40℃～90℃）提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度±0.05℃。

加熱制冷循環(huán)器（-20℃～180℃） 加熱制冷循環(huán)器實(shí)現(xiàn)高溫195℃，低溫-20℃恒溫測試，為用戶提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度達(dá)到±0.1℃， 應(yīng)用于石油化工、制藥等化學(xué)反應(yīng)工藝過程控制，半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制，對反應(yīng)釜、全自動(dòng)合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環(huán)應(yīng)用。

加熱制冷循環(huán)器MD40-20$n提供熱冷受控，溫度均勻恒定的場源，可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，整個(gè)量程范圍的溫度精確控制，恒溫波動(dòng)度±0.05℃。

加熱制冷浴槽（-30℃～90℃），MD30-100可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源，用于石油化工、制藥、半導(dǎo)體擴(kuò)散爐擴(kuò)散工藝控制，低溫測量和檢定，樣品保存等浸入式實(shí)驗(yàn)或外循環(huán)應(yīng)用。